更新時間:2024-05-07
產(chǎn)品型號:XRS-KDB-2B
廠家性質(zhì):經(jīng)銷商
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本設備采用四探針法專用于金屬薄膜方塊電阻,HAD-KDB-2B 測試儀嚴格參照國際標準SEMI MF 374-0307 對設備的要求研制,運用了先進的半導體薄層測量技術(shù),無需特別制樣,可測不規(guī)則的金屬薄膜。技術(shù)指標:方塊電阻測量范圍(3 位有效數(shù)字):0.00001-0.3Ω/□。測量電流分兩檔:100mA 和 1000mA。最小分辨率:0.00001Ω/□。試樣尺寸:直徑大于 32m
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